實驗室光刻機

簡要描述：實驗室光刻機參數：1.曝光面積:160mm*160mm。2.曝光分辨率:接觸式曝光0.8um-1um。3.對準精度:±1-1.5um。4.光源強度:35mW/cm2。5.UV光源:進口LED模塊。

所在城市：無錫市
廠商性質：生產廠家
更新日期：2024-11-07
訪問量：308

產品分類

詳細介紹

　　實驗室光刻機產品參數：

　　1.曝光面積:160mm*160mm

　　2.曝光分辨率:接觸式曝光0.8um-1um

　　3.對準精度:±1-1.5um

　　4.光源強度:35mW/cm2

　　5.UV光源:進口LED模塊

　　6.曝光中心波長:365nm

　　7.光源壽命:1萬小時，光源平行性:≤2°

　　8.曝光分辨率:接觸式曝光0.8um-1um

　　9.照度不均勻性:≤3%

　　10.曝光設定:定時

　　11.可執行曝光模式:真空接觸、硬接觸、壓力接觸、接近式

　　12.間隙設定方式:數字設定曝光間隙0-1200um

　　13.可調，可自動分離和消除間隙

　　14.樣片、掩模版相對移動范圍:X:±5mm，Y:±5mm,0=±6°

　　15.掩模版找平方式:球氣浮自動找平

　　16.可支持掩模版尺寸:3"x3"、4"x4"、5"x5"、7"x7"各一件

　　17.標配承片臺:2英寸、3英寸、4英寸、6英寸

　　18.標準配件可兼容樣片厚度:0.1-5mm，其他尺寸可定制

　　19.對準系統:光學+CCD,顯微倍數:放大倍率:150倍-720倍可調

　　20.雙物鏡可調距離范圍:30mm-120mm

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